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टाइटेनियम लक्ष्य
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टाइटेनियम लक्ष्य

टाइटेनियम लक्ष्य

कच्चा माल मानक: एएसटीएम बी265 / एएसटीएम बी348 / एफ67/136, डीआईएन, एएमएस
उपलब्ध ग्रेड: Gr1 / Gr2 / Gr5 /Gr7
अनुपालन: ISO 9001 / AS9100
आकृतियाँ: गोल लक्ष्य, आयताकार/तलीय लक्ष्य, ट्यूब लक्ष्य, विशेष-आकार और चरणबद्ध लक्ष्य
आकार: चित्र या तकनीकी विशिष्टताओं के अनुसार अनुकूलित

 

टाइटेनियम लक्ष्य क्या है?

 

Ti लक्ष्य एक उच्च शुद्धता वाली टाइटेनियम सामग्री (99.5% Ti से अधिक या उसके बराबर) है जिसका उपयोग पीवीडी और स्पटरिंग सिस्टम में पतली टाइटेनियम या टाइटेनियम आधारित फिल्मों को सब्सट्रेट पर जमा करने के लिए किया जाता है।

Titanium sputtering target

इसे उच्च घनत्व, महीन दाने वाली संरचना और स्थिर स्पटरिंग प्रदर्शन प्राप्त करने के लिए उन्नत पिघलने, फोर्जिंग और सटीक मशीनिंग के माध्यम से निर्मित किया जाता है।

 

इनका उपयोग आमतौर पर सेमीकंडक्टर निर्माण, एलसीडी और ओएलईडी डिस्प्ले, मेमोरी इलेक्ट्रोड, ऑप्टिकल कोटिंग और सजावटी पीवीडी कोटिंग में किया जाता है क्योंकि वे उत्कृष्ट फिल्म आसंजन, संक्षारण प्रतिरोध और कोटिंग एकरूपता प्रदान करते हैं।

Ti लक्ष्य के भौतिक एवं रासायनिक गुण

 

 

संपत्ति

विशिष्ट मूल्य

घनत्व

4.50 - 4.52 ग्राम/सेमी³

गलनांक

1668 ± 5 डिग्री

पवित्रता

99.5% – 99.99% (2N5 – 4N)

थर्मल विस्तार

8.6 × 10⁻⁶ / K

सूक्ष्म संरचना और आंतरिक गुणवत्ता

घनत्व 99.5% से अधिक या उसके बराबर

एकसमान महीन अनाज संरचना

कोई प्रदूषण नहीं

कोई दृश्यमान समावेशन नहीं

कोई सरंध्रता या दरार नहीं

पैकेजिंग

वैक्यूम सीलबंद + डिसीकैंट + शॉक-प्रूफ़ लकड़ी का केस

समय सीमा

अधिकांश आकारों के लिए 2-4 सप्ताह

Ti लक्ष्य आकार सीमा

 

समतल एवं गोल लक्ष्य

प्रकार

मोटाई

चौड़ाई/व्यास

आयताकार लक्ष्य

0.125 इंच से अधिक या उसके बराबर

12 इंच से कम या उसके बराबर

गोल लक्ष्य

0.125 इंच से अधिक या उसके बराबर

1.0″ – 21.0″ (25.4 – 533.4 मिमी)

ट्यूब लक्ष्य

0.125 इंच से अधिक या उसके बराबर

12 इंच से कम या उसके बराबर

सतह का खुरदरापन

  • स्पटरिंग सतह: Ra 1.6 μm से कम या उसके बराबर
  • गैर -स्पटरिंग सतह: Ra 3.2 μm से कम या उसके बराबर
High purity titanium target
गुणवत्ता नियंत्रण एवं निरीक्षण
  • रासायनिक संरचना विश्लेषण
  • यांत्रिक संपत्ति परीक्षण
  • आयामी और दृश्य निरीक्षण

यदि आवश्यक हो, तो आप प्राप्त कर सकते हैं:

  • मिल टेस्ट सर्टिफिकेट (एमटीसी)
  • निरीक्षण रिपोर्ट

कस्टम टाइटेनियम लक्ष्य क्षमताएँ

 

आप लक्ष्यों को पूरी तरह से अनुकूलित कर सकते हैं:

1. शुद्धता विकल्प

99.5% से 99.999% तक

2. आकार एवं मोटाई

  • गैर-मानक आकार समर्थित
  • न्यूनतम मशीनिंग मोटाई: 1 मिमी

3. अनाज का आकार नियंत्रण

  • ताप उपचार द्वारा नियंत्रित
  • 20 - 200 μm अनाज आकार उपलब्ध है

4. बंधुआ लक्ष्य

आप इसमें बैकिंग प्लेट चुन सकते हैं:

  • तांबा (घन)
  • एल्यूमिनियम (अल)
  • मोलिब्डेनम (मो)

5. सतही परिष्करण

मुड़ना,पीसना,पॉलिश करना,सैंडब्लास्टिंग

6. जटिल आकार

चरणबद्ध लक्ष्य,खंड-बंधित लक्ष्य,विशेष आकृतियाँ

Custom Titanium Target

टाइटेनियम लक्ष्य अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

क्या टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग उच्च -तापमान या उच्च {{1}पावर स्पटरिंग में किया जा सकता है?

हाँ।
उच्च{{0}शुद्धता वाले लक्ष्य सर्वाधिक उच्च{{1}तापमान स्पटरिंग के लिए उपयुक्त हैं।
अत्यधिक बिजली भार या निरंतर औद्योगिक उत्पादन के लिए, ग्रेड 5 (Ti-6Al-4V) लक्ष्य उच्च यांत्रिक शक्ति और थर्मल स्थिरता प्रदान करते हैं।

क्या टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य अंतरराष्ट्रीय स्तर पर निर्यात किया जा सकता है?

हाँ।
आप हवाई, समुद्र या एक्सप्रेस (डीएचएल, फेडेक्स, यूपीएस) द्वारा जहाज भेज सकते हैं।
सभी निर्यात पैकेजिंग {{0}प्रभावरोधी, नमीरोधी{{1}और ऑक्सीकरण{2}संरक्षित हैं।

लक्ष्य और टाइटेनियम पीवीडी लक्ष्य के बीच क्या अंतर है?

टाइटेनियम पीवीडी लक्ष्य विशेष रूप से उच्च परिशुद्धता स्पटरिंग के लिए अनुकूलित किए गए हैं, जो बेहतर जमाव दक्षता और फिल्म एकरूपता प्रदान करते हैं। मानक लक्ष्य अधिक बहुमुखी हैं और औद्योगिक कोटिंग अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए उपयुक्त हैं, हालांकि अल्ट्रा-{2}}उच्च-परिशुद्धता वाले पीवीडी सिस्टम के लिए हमेशा अनुकूलित नहीं होते हैं।

 

 

 

 

उत्पादन प्रक्रिया

 

Titanium Target Process

 

 

 

लोकप्रिय टैग: टाइटेनियम लक्ष्य, चीन टाइटेनियम निर्माताओं, आपूर्तिकर्ताओं, कारखाने को लक्षित करता है

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